Kot leta 2001, mikročipi so narejeni z globoko ultravijolično litografijo so narejeni s 248-nanometrski svetlobo. Od maja 2001, nekateri proizvajalci so prehod preko 193-nanometrski svetlobo. Z EUVL bodo čipi treba s 13-nanometrski svetlobo. Na podlagi zakona, ki je manjše valovne dolžine ustvarili boljšo sliko, bo 13-nanometer svetloba poveča kakovost projiciranim mirno silicijevo rezino, s čimer se izboljša hitrost mikroprocesorja.
Ta celoten proces mora potekati v vakuumu ker so te valovne dolžine svetlobe, tako kratek, da bi celo zrak jih absorbira. Poleg tega EUVL uporablja konkavne in konveksne ogledala obloženim s plastmi molibdena in silicija - ta prevleka lahko odraža skoraj 70 odstotkov EUV svetlobe pri valovni dolžini 13.4 nanometrov. Druga 30 odstotkov absorbira ogledalom. Brez premaza, bo svetloba se skoraj popolnoma absorbira preden doseže rezin. Ogledalu površine morajo biti skoraj popolna; celo majhne napake v premazih lahko uniči obliko optike in izkrivljajo vzorec tiskano vezje, ki povzroča težave v delovanju čip.
Za več informacij o EUVL in sorodnih temah, si oglejte povezave na naslednji strani.
